極紫外 (EUV) 球面反射鏡

極紫外 (EUV) 球面反射鏡具有多層鉬/硅鍍膜，在 13.5nm 下的反射率大于 60%。它們專為 5o 入射角設計，并用于聚焦非偏振 EUV 激光源。表面粗糙度小于 3? RMS，可*大程度地降低散射。這對 EUV 波長必不可少，因為 EUV 波長的散射比長波長更多. TECHSPEC EUV 球面反射鏡的通帶非常窄，約為 0.5nm，確保只會在高諧波生成 (HHG) 應用中反射 13.5nm 的關注諧波。EUV 球面反射鏡的 典型應用包括相干衍射極紫外 (EUV) 球面反射鏡具有多層鉬/硅鍍膜，在 13.5nm 下的反射率大于 60%。它們專為 5o 入射角設計，并用于聚焦非偏振 EUV 激光源。表面粗糙度小于 3? RMS，可*大程度地降低散射。這對 EUV 波長必不可少，因為 EUV 波長的散射比長波長更多. TECHSPEC 成像 (CDI)、EUV 成像和 EUV 納米加工.